国家知识产权局信息显示，武汉华工图像技术开发有限公司申请一项“激光全息防伪膜及其制备方法”的专利，其申请公开号为CN122201116A，申请日期为2026年4月。

专利摘要显示，本发明提供了一种激光全息防伪膜及其制备方法，激光全息防伪膜包括依次设置的PC基膜、镀层、耐温层，PC基膜中设有全息防伪图案。本发明实现了在180200℃高温层压下全息防伪图案的稳定保持，同时，简化了制备工艺，降低了制作成本。

文章来源：根据国家知识产权局官网整理