国家知识产权局专利检索截图

国家知识产权局信息显示，中山国安火炬科技发展有限公司申请一项名为“带全息纹理图案的核微孔防伪材料及其生产工艺”的专利，公开号CN121354431A，申请日期为2025年9月。

专利摘要显示，本发明公开了一种带全息纹理图案的核微孔防伪材料及其生产工艺，带全息纹理图案的核微孔防伪材料，由下往上依次包括基膜层、可离型模压层及粘接层，基膜层为辐照膜，可离型模压层设有模压图案，可离型模压层能够与基膜层分离；粘接层的设置区域形成遮盖图案，其中，在遮盖图案的沿上下方向的投影区域以外的可离型模压层通过蚀刻工艺清除，在遮盖图案的沿上下方向的投影区域以外的基膜层通过蚀刻工艺形成核微孔区，形成了带全息纹理图案且核微孔防伪技术的防伪材料，提升防伪材料的防伪性能。

文章来源：金融界